Технологија премаза за распршивање магнета

Технологија наношења премаза магнетронским распршивањем има следеће предности · брзина таложења је велика. Због магнетронске електроде велике брзине, добијени проток јона је велики, што ефективно побољшава брзину таложења и брзину распршивања процеса наношења премаза. У поређењу са другим процесима премазивања распршивањем, магнетронско распршивање има висок производни капацитет и велику снагу и широко се користи у разним индустријским производима. · Висока енергетска ефикасност. Магнетронска мета за распршивање генерално бира напон у опсегу од 200В-1000В, обично 600В, јер је напон од 600В управо унутар највећег ефективног опсега енергетске ефикасности. · Ниска енергија прскања. Циљни напон магнетрона се примењује ниско, а магнетно поље спутава плазму близу катоде, што спречава честице са већом енергијом да упадну на подлогу. · Температура подлоге је ниска. Анода се може користити за одвођење електрона насталих током пражњења, без потребе за уземљењем носача супстрата, што може ефикасно смањити бомбардовање подлоге електронима, тако да је температура супстрата ниска, што је веома погодно за неке пластичне подлоге премази који нису превише отпорни на високе температуре. · Неравномерно нагризање на површини мете за распршивање магнетрона. Неравномерно нагризање површине магнетронског распршивања је узроковано неуједначеним магнетним пољем мете, а брзина нагризања мете на локалном месту је велика тако да је ефективна стопа коришћења мете ниска (само 20%-30 % степена искоришћења). Стога, ако желите да побољшате стопу искоришћења мете, потребно је да промените дистрибуцију магнетног поља на одређени начин или користите магнет за кретање у катоди, што такође може побољшати стопу искоришћења мете. · Композитни циљ. Може се направити композитни филм од легуре за циљање. Тренутно је филм од легуре Та-Ти, (Тб-Ди) -Фе и Гб-Цо успешно обложен поступком композитног магнетронског циљаног распршивања. Постоје четири врсте композитних циљних структура, а то су округла мозаична мета, квадратна мозаична мета, мала квадратна мозаична мета и лепезаста мозаична мета, међу којима је најбоља структура лепезастог мозаика. · широк спектар примена. Многи елементи се могу депоновати процесом магнетронског распршивања, уобичајени су Аг, Ау, Ц, Цо, Цу, Фе, Ге, Мо, Нб, Ни, Ос, Цр, Пд, Пт, Ре, Рх, Си, Та, Ти, Зр, СиО, АлО, ГаАс, У, В, СнО, итд. Технологија наношења премаза магнетном контролом је један од најчешће коришћених процеса облагања за многе висококвалитетне технологије филма, са различитим типовима филма, снажна контрола дебљине филма, висока адхезија филма, добра густоћа и веома лепа завршна обрада површине.

Компанија ИКС ПВД, машина за декоративно премазивање, машина за облагање алата, машина за ДЛЦ премазивање, машина за оптичко премазивање, ПВД вакуумска линија за премазивање, доступан је пројекат „кључ у руке“. Контактирајте нас сада, Е-пошта: iks.pvd@foxmail.com