ПВД титан платинг нова технологија подигнута

  ПВД титан платинг нова технологија подигнута

ПВД (физички): ПВД (депозиција физичког паре) односи се на процес преноса атома или молекула из извора на површину супстрата помоћу физичких процеса. Његова функција је омогућити распршивање честица са посебним особинама (велика чврстоћа, отпорност на абразију, дисипацију топлоте, отпорност на корозију итд.) Да буду на матрици са нижим перформансама, тако да матрица има боље перформансе. ПВД базне методе: вакумско испаравање, спуттеринг, јонирање (ипљење шупље катодне воде, таложење врелим катодом, обнављање лучних лонаца, реактивна јонизација, радиофреквентно јонирање, дц одвајање од јонског снопа).

ПВД је скраћеница од Депозиције физичког пара (физичко вапор депозиције). То се односи на праксу коришћења технологије нисконапонске и високонапонске пражњења за испаравање циљног материјала и јонизују и испарени материјал и гас у условима вакуума. Користећи убрзање електричног поља, испарени материјал и његови реакциони производи се одлажу на радном комаду .

ПВД технологија се појавила у припремљеним филмовима са високом тврдоћом, коефицијентом ниског трења, добром отпорношћу на хабање и хемијском стабилношћу. Успешна примена у области алата за сечење великих брзина привукла је велику пажњу из прерађивачке индустрије широм света. Док развијају високу перформансу и високо поуздану опрему за премазивање, детаљније истраживање примене је обављено иу цементираним карбидним и керамичким резним алатима. У поређењу са ЦВД процесом, ПВД процесна температура је ниска, испод 600 ℃ када се чврстоћа савијања материјала алата за резање; Унутрашње напонско стање филма је притисак на притисак, који је погоднији за наношење пресвучених алата за цементни карбид. ПВД процес нема негативан утицај на животну средину и у складу је са правцем развоја савремене зелене производње. Тренутно се технологија ПВД премаза широко користи у обради третмана резног глодала за резање карбида, бушилице, бушилице за бушење, бушења уља, раммера, додира, индексирајућег фрезалног листа, окретног ножа, специјалног облика, резач за заваривање итд.

ПВД технологија не само да побољшава чврстоћу везивања танких и матричних материјала, већ је такође развила композицију премаза од прве генерације ТиН до вишеслојног премаза као што су ТиЦ, ТиЦН, ЗрН, ЦрН, МоС2, ТиАлН, ТиАлЦН, лим -алн, ЦНк, ДЛЦ и та-ц.

Побољшани магнетни катодни лук: техника лука катоде је да одвоји мете у стање јона кроз ниски напон и високу струју под условима вакуума, како би се завршио депозит материјала танког филма. Побољшани магнетни катодни лук користи комбиновано деловање електромагнетног поља како би ефективно контролисао лук ефектне површине, што повећава ионизацију материјала и побољшава перформансе филма.

Филтрирани катодни лук: филтрирани катодни лук (ФЦА) систем електромагнетске филтрације, опремљен са високо ефикасним јонским изворима, може се произвести макроскопским честицама у плазма и филтеру масе јона чисто, након што је магнетска филтрација седиментних честица стопа ионизације била 100% и може филтрирати извадите веће честице, тако да је припремање филма врло компактно и глатко, са добром отпорношћу на корозију, а јачина адхезије тела је јака.

Магнетно распршивање: у вакуумском окружењу, циљ је бомбардован јонизованим јонима инертног гаса кроз комбиновано дејство напона и магнетног поља, чиме се мета избацује у облику јона, атома или молекула и депонује на подлози да би се формирао танак филм. Проводни и не-проводни материјали могу се прскају као циљани материјали у складу са различитим изворима јонизационих извора који се користе.

Јонски сноп ДЛЦ: гас угљеног водоника је одвојен у плазму у јонском извору, а јонови угљеника се ослобађају из јона извора под комбинованим дејством електромагнетног поља. Енергија јонских зрака се контролише подешавањем напона који се примењује на плазму. Ухват огљиководиковог јона уводи се на подлогу, а стопа депозиције пропорционална је густини јонске струје. Извор сонде за лупу звездног лука усваја високи напон, тако да је јонска енергија већа, што чини добро везивање филма и супстрата. Већа јонска струја чини бржу депозицију ДЛЦ филма. Главна предност технологије јонске греде је у томе што може да депонује ултра-танак и вишеслојну структуру, прецизност контроле процеса може да достигне неколико углова и може смањити недостатак проузрокован загађењем честица у процесу на минимум.

ИКС ПВД је прилагодио одговарајући ПВД вакуум премаз махцина за вас, контактирајте нас сада, икс.пвд@фокмаил.цом