Tehnologija nanošenja magnetronskog raspršivanja srednje frekvencije

Tehnologija nanošenja magnetronskog raspršivanja srednje frekvencije

Magnetronsko prskanje uključuje mnoge vrste. Svaki od njih ima različit princip rada i primijenjeni objekt. Ali oni imaju jednu zajedničku stvar: oni koriste magnetna polja za interakciju s elektronima, uzrokujući da se spirale oko ciljne površine, povećavajući vjerojatnost da će udariti argon kako bi proizveli ione. Stvoreni ioni se sudaraju sa ciljnom površinom pod djelovanjem električnog polja i prskaju ciljni materijal. U poslednjih nekoliko decenija razvoja ljudi postepeno usvajaju trajne magnete, retko magnete.

Ciljni izvor je podijeljen na uravnotežen i neuravnotežen, uravnotežen ciljani izvor jednolikog premaza, neuravnoteženi ciljni sloj premaza i jačina vezanja matrice. Balansirani ciljni izvori se uglavnom koriste u poluvodičkim optičkim filmovima, dok se neuravnoteženi ciljevi uglavnom koriste u iznošenim dekorativnim filmovima.

Bez obzira na ravnotežu ili neravnotežu, ako je magnet nepomičan, njegove karakteristike magnetnog polja određuju da je opća stopa iskorištenosti materijala manja od 30%. Da bi se povećala stopa upotrebe cilja, može se koristiti rotirajuće magnetno polje. Međutim, rotirajuće magnetno polje zahteva rotacioni mehanizam, a brzina raspršivanja treba da se smanji. Rotirajuće magnetno polje se uglavnom koristi za velike ili vrijedne mete. Kao što je poluprovodnički film prskanje. Za malu opremu i opću industrijsku opremu, korištenje ciljnog izvora statičkog magnetnog polja.

Raspršivanje metala i legura sa magnetronskim ciljnim izvorom je lako, a paljenje i raspršivanje je lako. To je zato što meta (katoda), plazma i prskani delovi / vakuumska šupljina mogu da formiraju petlju. Ali ako je izolator od prskanja, kao što je keramika, prekinut. Tako ljudi koriste visokofrekventno napajanje, krug dodaje vrlo jak kapacitet. Tako cilj postaje kondenzator u izoliranom krugu. Međutim, visokofrekventno napajanje magnetronskim raspršivanjem je skupo, brzina raspršivanja je vrlo mala, a tehnologija uzemljenja je vrlo složena, tako da je teško koristiti na velikoj skali. Da bi se ovaj problem riješio, izumljeno je magnetronsko reaktivno prskanje. To je metalni cilj sa argonom i dodatim reaktivnim gasovima kao što su azot ili kiseonik. Kada metalni meta sudara s dijelom, on se kombinira s reakcijskim plinom u obliku nitrida ili oksida zbog pretvorbe energije.

Magnetronski reaktivni raspršujući izolatori izgledaju lako, ali ih je teško upravljati. Glavni problem je da se reakcija odvija ne samo na površini dijela, već i na anodi, površini vakuumske šupljine i površini ciljnog izvora. Tako dolazi do gašenja požara, ciljnog izvora i iskrivljenja površine obradka itd. Tehnologija dvostrukog ciljnog izvora koju je izmislila Nemačka laibao rešava ovaj problem dobro. Princip je da je par ciljnih izvora anoda i katoda za eliminaciju anodne površinske oksidacije ili nitriranja.

Hlađenje je potrebno za sve izvore (magnetron, multi-arc, ion) jer se veliki dio energije pretvara u toplinu, koja će, ako se ne ohladi ili ne ohladiti dovoljno, rastopiti cijeli ciljni izvor na temperaturi većoj od hiljadu stepeni.

Magnetski kontrolni uređaj je često veoma skup, ali ljudi imaju tendenciju da troše novac na drugu opremu kao što su vakuum pumpa, MFC, merenje debljine filma i ignorišu ciljni izvor. Dobar magnetronski uređaj za raspršivanje bez dobrog ciljnog izvora je kao crtanje zmaja bez točke.

Prednosti raspršivanja srednje frekvencije su glatke i guste, visoke tvrdoće filmskog sloja, linearni rast debljine filma, netoksičan, blagi porast temperature, ali zahtjevi opreme su visoki, raspon radnog tlaka je vrlo uzak, i različita kontrola zahtjevi su brzi i točni.

Višestruko prskanje nanošeno je malim naponom i velikom strujom na ciljnom materijalu da se ionizira materijal (pozitivno nabijene čestice), čime se udara u podlogu (negativno nabijenu) pri velikoj brzini i taloži, formirajući čvrsti film. Uglavnom se koristi za film otporan na habanje i otporan na koroziju. Nedostatak je u tome što film nije ujednačen, kavitacija i ablacija.

Princip raspršivanja srednje frekvencije s općim dc raspršivanjem je isti, razlika je dc prskanje cilindra kada je anoda, a srednja frekvencija prskanje je u parovima, barel da li prisustvuje ovisi o ukupnom dizajnu, i cijeli proces sputtering proces, raspored anode, katode, postoji mnogo načina da sudjeluju u omjeru ciklusa, mogu se dobiti različiti načini različitog prinosa prskanja, nisu iste ionske gustoće

Glavna tehnologija kod prskanja leži u dizajnu i primeni napajanja. Trenutno, sinusni talas i pulsni kvadratni val su dvije vrste izlaznih modova, koji imaju svoje prednosti i nedostatke. Prvo, treba razmotriti tipove filmskih slojeva kako bi se analizirao koji je tip izlaznog moda napajanja pogodan za koji sloj filma.

Intermedijarna frekvencija prskanje je također vrsta magnetron sputtering, opći magnetron sputtering cilj dizajn, dizajn magnetnog polja je ključ različitih tehnologija, međunarodnih nekoliko poznatih proizvođača sputtering cilj, za dizajn ciljnog magnetskog polja je profesionalno, promenom dizajna magnetnog polja može doći do različitih isparavanja plazme. Putanja elektrona, distribucija plazme, kao i tehničke tajne magnetnog polja prskanja.

Što se tiče katodnog luka (tj. Ionskog oplata), magnetronskog raspršivanja i isparavanja lonca, sve pripadaju PVD (fizičko taloženje pare), isparavanje lonca je uglavnom fazna promjena, a cilj isparavanja ima samo nekoliko elektron volti energije. Dakle, adhezija filma je mala, ali visoka brzina taloženja, uglavnom se koristi za optičko premazivanje. U magnetronskom raspršivanju, argonovi joni udaraju na metu da bi naneli atomske i molekularne fragmente na dijelove, a kinetička energija ciljnog materijala može doseći stotine ili čak tisuće elektron volta. To je pravi neutralni nanokomponentni premaz. Nakon što je katodni luk, s jedne strane, metalurški materijal rastopljen od strane ciljne površine pri visokoj temperaturi, a zatim se rastopljeni materijal gotovo u potpunosti ionizira jakim električnim poljem, a film se formira pod kombinovanim djelovanjem. ciljnog napajanja i parcijalnog pritiska dijelova. Izgleda da je katodna ploča naprednija, zapravo nije. Prije svega, proces taljenja ciljne površine je slučajan i nekontroliran, a ioni se talože u dijelove. Ujednačenost i glatkoća oblaganja je teško garantirati. Općenito govoreći, oblaganje katodnim lukom je postupak zavarivanja pod vakuumom. Princip napajanja katodnog luka i napajanja zavarivanjem je vrlo sličan. Tehnologija katodnog luka je uglavnom nastala iz bivšeg Sovjetskog Saveza. Popularan je u Kini iz raznih razloga. Ali tehnologija se poboljšava. Proteklih godina, tehnologija katodne lučne filtracije se brzo razvila, čime se izbjegava nedostatak neujednačenog formiranja filma. Međutim, neki gubici moraju biti izgubljeni, a filtriranje smanjuje brzinu taloženja i povećava troškove opreme.

Srednje frekventno magnetronsko raspršivanje zahtijeva visoki ciljni i magnetni dizajn, kao i radni tlak. Srednje frekventno magnetronsko raspršivanje je 2 do 3 puta brzine magnetnog taloženja magnetnog raspršivanja. Srednje frekventno magnetronsko raspršivanje se koristi za dva cilja za pripremu složenih filmova. Zbog niske brzine ionizacije teško je pronaći optimalnu tačku trovanja, a kontrola protoka radnog plina je vrlo stroga. Ako kontrola nije dobra, teško je pripremiti ravnomjeran i dobar film za prianjanje. I dizajn je uglavnom ujednačenost raspodjele magnetskog polja magnetskog polja može poboljšati stopu iskorištenja ciljnog materijala, tako da pored stabilnosti najboljeg trovanja neki posao također ima puno za poboljšanje energije magnetnog raspršivanja i difrakciju. daleko ispod ciljne površine luka, a udaljenost izratka je važna, preblizu ionskom bombardovanju artefakata može oštetiti membranski sloj, predaleko, odstupanje od optimalne sile raspršivanja premaza pripreme udaljenosti je vrlo loše

Ciljni materijal if se koristi za cilj, neki od njih se koriste za tri para. Cilj je relativno velik, kao i ako se većina njih koristi za metalne obloge. Takva vakuumska peć je uglavnom napravljena veća, što može ugroziti mnoge zadatke, a presvučeni filmski sloj je gušći.

Da li vam je interesantna mašina za magnetno raspršivanje srednje frekvencije, kontaktirajte sada IKS PVD, iks.pvd @ foxmail.com

Može li se prskanjem raditi pri niskom vakuumu? Nema problema. Naš trenutni raspored je 8.0 * 10-2pa.

Koji su faktori uticaja boje TiN filma ako se prska? Koji je efekat pristranosti na L, a i b?

Bias ima mnogo veze sa bojom,

Utjecaj tlaka plina za raspršivanje (argon) na vrijednosti L, a i b?

Ovaj problem je komplikovan, što se odnosi na brzinu jonizacije, način interkonekcije pritiska i ciljne udaljenosti. Može proći dosta vremena da se sistematiziraju vrlo jasni podaci. Gas i boju za raspršivanje treba reći da se određuju količinom proizvedenog prskanja, što utiče na odnos sa reakcionim gasom i ima uticaj na boju

Da li je moguće koristiti amonijak u reaktivnom prskanju? Da.